La Cina sta sviluppando il proprio “Progetto Manhattan” per raggiungere l’autosufficienza nella produzione di Chip AI

La Cina sta sviluppando un prototipo domestico di macchinari per l’Extreme ultraviolet lithography (EUV), una tecnologia chiave per la produzione dei semiconduttori più avanzati utilizzati in applicazioni di intelligenza artificiale, elettronica di consumo e sistemi ad alte prestazioni. Il progetto, completato all’inizio del 2025 e attualmente in fase di test, rappresenta un passo significativo verso l’obiettivo di autosufficienza tecnologica.

Secondo quanto riportato da Reuters, il prototipo è stato realizzato in un laboratorio ad alta sicurezza, tramite reverse engineering, da un team che include ex ingegneri e ricercatori di ASML. La macchina sarebbe già in grado di generare luce EUV, ma non avrebbe ancora prodotto chip funzionanti. L’obiettivo delle autorità cinesi è di ottenere i primi risultati operativi entro la fine del decennio; persistono tuttavia rilevanti sfide tecniche, in particolare nella realizzazione di sistemi ottici ad altissima precisione.

Il progetto rientra in una più ampia strategia governativa avviata da Pechino per rafforzare l’autonomia della filiera nazionale dei semiconduttori, riducendo la dipendenza da fornitori occidentali. In tale contesto, un ruolo centrale è svolto dal coordinamento tra imprese tecnologiche, istituti di ricerca e strutture industriali.

Attualmente, la tecnologia EUV è dominata da un unico fornitore globale, la società olandese ASML, le cui macchine sono indispensabili per la produzione dei chip più avanzati. Le restrizioni all’export introdotte dagli Stati Uniti e dai Paesi alleati hanno finora impedito la vendita di sistemi EUV alla Cina, rallentandone l’accesso alle tecnologie di frontiera. Per aggirare tali limitazioni, il progetto cinese avrebbe fatto ricorso a componenti provenienti da macchinari di precedente generazione e a forniture reperite sui mercati secondari.

Nonostante il divario tecnologico con i leader occidentali rimanga consistente, la realizzazione di un prototipo funzionante di macchina EUV, seppur sperimentale, rappresenta un’accelerazione nello sviluppo cinese nel campo della litografia avanzata, con possibili effetti nel medio-lungo termine sulla catena globale dei semiconduttori .

Fonte: Reuters